Block Engineering

Block Engineeringについて

Block Engineeringは、1956年創業の中赤外線 分光器をはじめとするQCLレーザー駆動式な光学装置・部品のメーカーです。
同社製品はセキュリティ・石油・ガス掘削装置等の産業分野、ガン診断装置等の医療分野にて用いられています。

ラインナップ

PORTHOS

PORTHOS™ Portable FTIR Chemical Detection Spectrometer

スクリーンショット 2017-07-28 14.54.24
porthos
特徴・用途他
  • 化学剤、毒性化学物質及び各種ガスの素早い探知
  • FTIR
  • コンパクト・軽量(ポータブルタイプ)
  • ビデオ内蔵他
  • 電池駆動式他(〜4時間)
  • ドローン搭載可能(7.7 kg)、

仕様・データ他:こちら

検知対象ガス
分類 TICs
ガス種 Ammonia Arsine
Boron Trichloride Boron Trifluoride
Phosgene Carbon Disulfide
Nitric Acid Hydrogen Cyanide
Sulfur Dioxide

他:Freon… お問い合わせてください

LaserWarn

LaserWarn™(屋外設置タイプ)

特徴・用途他
  • 広大な地域での漏洩検知
  • 屋外設置タイプ
  • リアルタイムでのモニタリング
  • 固定式・ポータブル式両方に対応

LaserWarn™(屋内設置タイプ)

スクリーンショット 2017-07-28 15.48.12
特徴
  • リアルタイムモニタリング
  • 固定式・ポータブル式両方に対応
  • 屋内・屋外両方で設置可能

検知対象ガス(屋外・屋内タイプ共通)
分類 TIC Blood CWA / TIC Nerve CWA Blister CWA
ガス種 Sulfur Dioxide (SO2) Hydrogen Cyanide (AC) Tabun (GA) Sulfur Mustard (HD)
Chlorine as HClO Cyanogen Chloride (CK) Sarin (GB) Nitrogen Mustard (HN3)
Benzene (C6H6) Phosgene (CG) Soman (GD) Lewisite (L)
Formaldehyde (CH2O) Cyclosarin (GF)
Acrolein (C3H4O) VX
Ethane (C2H6)
n-Butane (C4H10)
Carbonylsulfide (COS)
Methane (CH4)
Acrylonitrile (CH2CHCN)
Ethylene (C2H4)
Nitrous oxide(N2O)
Nitric Acid (HNO3)
Ammonia (NH3)

他:SF6, DFE, Freon… お問い合わせください

事例:ニューヨークの駅など
LaserWarn-indoor
LaserWarn-outdoor

LaserTune

LaserTune™: Widely Tunable Mid-Infrared Quantum Cascade Laser

lasertune_new
特徴
  • 広帯域チューナブル中赤外量子カスケードレーザー
  • ギャップフリー
  • 素早いチューニング
  • 優れたビームピイント安定性 他

仕様・データ他:こちら

LaserSense

LaserSense-ML™: Process Gas Analyzer for Mudlogging

lasersenseml
スクリーンショット 2017-07-28 16.35.45
特徴
  • ガス分析
  • 精密測定可能
  • キャリアガス不要
  • 早い反応時間
  • 消耗品不要
  • 耐環境・防爆容器

仕様・データ他:こちら

LaserSense-CV™

スクリーンショット 2017-07-28 16.54.33
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特徴
  • (キャリア及び構成ガス無しで)校正可能
  • リアルタイム分析
  • 消耗品不要
  • C1-C6仕様:C1, C2, C3, nC4, iC4, nC5, iC5, neoC5, C6+

仕様・データ他:こちら

検知対象ガス
ガス種 CH4, Methane C2H2, Acetylene
C2H6, Ethane C2H4, Ethane
C3H8, Propane C3H6, Cyclopropane
C4H10, n-Butane NO, Nitric Oxide
C5H12, n-Pentane NO2, Nitrogen Dioxide
H2S, Hydrogen Sulfide HNO3, Nitric Acid
SiF4, Silicon Tetrafluoride SO2, Sulfur Dioxide
C7H8, Toluene C6H6, Benzene
C8H10, Xylenes Ethylbenzene