レーザーミラー Laser Mirros
エキシマレーザーキャビティ光学
Excimer Laser Cavity Optics
(仕様)
| 項目 | 数値 |
| 材料 Material: | VUV CaF2 |
| 並列処理 Parallelism: | < 3 arc min. |
| クリアアパーチャー Clear Aperture: | > 80% of central dimension |
| 面取り Chamfer: | 0.3mm ´ 45° |
| 表面図 Surface Figure: | l/10 at 632.8nm |
| 表面品質 Surface Quality: | 20-10 scratch-dig |
| パワー Power: | Up to 1-4 J/cm2 |
エキシマレーザーミラー ArF (193nm) & KrF (248nm)
Excimer Laser Mirrors ArF (193nm) & KrF (248nm)
(仕様)
| 項目 | 数値 |
| 材料 Material: | VUV CaF2, UV Fused Silica |
| 並列処理 Parallelism: | < 3 arc min |
| クリアアパーチャー Clear Aperture: | > 85% of central dimension |
| 面取り Chamfer: | 0.3mm ´ 45° |
| 表面図 Surface Figure: | l/10 at 632.8nm |
| 表面品質 Surface Quality: | 20-10 for VUV CaF2 |
| 10-5 for UV Fused Silica | |
| パワー Power: | Up to 1J/cm2, ArF |
| Up to 4J/cm2, KrF |
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