フェムト秒レーザースライス加工 – 窒化ガリウム | 超高精密フェムト秒レーザー加工機

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スライス加工 – 窒化ガリウム

スライス加工

フェムト秒レーザー（超短パルスレーザー）は照射箇所のみを分子乖離・コールドアブレーションさせることができるため微細加工に適しています。
このページでは自社超高精密フェムト秒レーザー加工機にて行ったスライス加工の加工結果を公開しています。

【スライス加工】

目的：窒化ガリウム基板の内部中央約 0.17mm の位置に改質層を⽣成し、基板を上下⽅向に分離できるようにする
素材：窒化ガリウム（GaN）基板、サイズ 10mm × 10mm、t = 0.35mm
設備：空間位相変調器（LCOS-SLM）、対物レンズ（50倍）
方法：ステージ動作により、バーストモードのレーザーを縦横 2μm ピッチで照射。ステージ動作速度とレーザーの発振周波数に関係なく、指定したピッチ（今回は2μm）でレーザーを照射するために等ピッチPOD（パルス・オン・デマンド）制御を行う
結果：基板の厚み中央（内部 174μm の位置）に改質層を生成

【加工動画】

※レーザー照射がわかりやすいように強度のIRレーザーで実施